北京埃德万斯离子束技术研究所股份有限公司,位于中国的首都,政治、文化中心北京,北京市海淀区地锦路9号院1号楼101-45号房间,于2001年03月08日在北京成立。公司资金充裕,注册资本3543万,在刁克明带领下,埃德万斯离子束技术研究所已经为客户提供了24年优质的服务,公司主要提供离子束刻蚀系统、沉积薄膜系统、真空系统及计算机控制系统的技术开发、转让、咨询、服务、培训;销售开发后的产品、机械设备、电子产品、仪器仪表;货物进出口、技术进出口、进出口代理, 欢迎各界朋友莅临参观、指导和业务洽谈
联系方式
- 公司地址:
- 北京市海淀区地锦路9号院1号楼101-45号房间(注册地址)
- 经理:
- 刁克明(法定代表人)
- 邮政编码:
- 100000
- 顺企®采购:
- 请卖家联系我在线采购产品
其他联系方式
手机号码 | 13601133881 |
手机号码 | 13552365344 |
电子邮箱 | ion@advancedmems.com.cn |
电子邮箱 | ionbeam@vip.sohu.com |
工商信息和基本资料
- 法人名称:
- 北京埃德万斯离子束技术研究所股份有限公司
- 简称:
- 埃德万斯离子束技术研究所
- 主要经营产品:
- 未提供
- 经营范围:
- 离子束刻蚀系统、沉积薄膜系统、真空系统及计算机控制系统的技术开发、转让、咨询、服务、培训;销售开发后的产品、机械设备、电子产品、仪器仪表;货物进出口、技术进出口、进出口代理。(市场主体依法自主选择经营项目,开展经营活动;依法须经批准的项目,经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动;不得从事国家和本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。)
- 营业执照号码:
- 91110106802061630C
- 发证机关:
- 北京市海淀区市场监督管理局
- 法人类型:
- 股份有限公司(非上市、自然人投资或控股)
- 地区编码:
- 110106
- 组织机构代码:
- 80206163-0
- 经营期限:
- 永久
- 经营状态:
- 存续
- 成立时间:
- 2001年03月08日
- 注册资本:
- 3543万 (万元)
- 所属行业:
- 研究与试验发展 » 海淀区研究与试验发展
- 所属城市黄页:
- 北京企业网 » 海淀区 » 海淀区海淀
- 顺企编码:
- 201339944
北京埃德万斯离子束技术研究所股份有限公司的股东
股东名字 | 出资比例 | 出资额 |
---|---|---|
刁克明 | 37.6% | 人民币1332.0万元 |
李居庸 | 32.12% | 人民币1138.0万元 |
刘小琴 | 8.86% | 人民币314.0万元 |
庞军 | 8.24% | 人民币292.0万元 |
陈为群 | 2.46% | 人民币87.0万元 |
刘希平 | 2.46% | 人民币87.0万元 |
谢家瑾 | 2.46% | 人民币87.0万元 |
王志奇 | 1.35% | 人民币48.0万元 |
赵龙 | 1.21% | 人民币43.0万元 |
熊焰 | 1.21% | 人民币43.0万元 |
闻东 | 1.21% | 人民币43.0万元 |
高慧 | 0.37% | 人民币13.0万元 |
伊福廷 | 0.25% | 人民币9.0万元 |
南继忠 | 0.2% | 人民币7.0万元 |
北京埃德万斯离子束技术研究所股份有限公司的工商变更记录
变更项目 | 变更后 | 变更前 | 时间 |
---|---|---|---|
经营范围 | 离子束刻蚀系统、沉积薄膜系统、真空系统及计算机控制系统的技术开发、转让、咨询、服务、培训;销售开发后的产品、机械设备、电子产品、仪器仪表;货物进出口、技术进出口、进出口代理。(市场主体依法自主选择经营项目,开展经营活动;依法须经批准的项目,经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动;不得从事国家和本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。) | 离子束刻蚀系统、沉积薄膜系统、真空系统及计算机控制系统的技术开发、转让、咨询、服务、培训;销售开发后的产品、机械设备、电子产品、仪器仪表。(企业依法自主选择经营项目,开展经营活动;依法须经批准的项目,经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动;不得从事本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。) | 2021-12-24 |
登记管辖变更 | 北京市海淀区市场监督管理局 | 北京市丰台区市场监督管理局 | 2016-08-18 |
登记管辖变更 | 海淀分局 | 丰台分局 | 2016-08-18 |
住所 | 北京市海淀区地锦路9号院1号楼101-45号房间 | 北京市丰台区小屯路150号 | 2016-08-18 |
企业名称 | 北京埃德万斯离子束技术研究所股份有限公司 | 北京埃德万斯离子束技术研究所有限公司 | 2016-01-20 |
注册资本 | 3543万元( + 3443% ) | 100万元 | 2016-01-20 |
经营范围 | 离子束刻蚀系统、沉积薄膜系统、真空系统及计算机控制系统的技术开发、转让、咨询、服务、培训;销售开发后的产品、机械设备、电子产品、仪器仪表。依法须经批准的项目,经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动。 | 离子束刻蚀系统、沉积薄膜系统、真空系统及计算机控制系统的技术开发、转让、咨询、服务、培训;销售开发后的产品。依法须经批准的项目,经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动。 | 2016-01-20 |
注册资本 | 3543( + 3443% ) | 100 | 2016-01-20 |
注册资本 | 3543万( + 3443% ) | 100万 | 2016-01-20 |
企业类型 | 股份有限公司(非上市、自然人投资或控股) | 有限责任公司(自然人投资或控股) | 2016-01-20 |