上海华虹（集团）有限公司
上海华虹（集团）有限公司成立于1996年，是原电子工业部与上海市政府合作的国家“909”工程的载体，成功建设和运营了国内第一条8英寸超大规模深亚微米集成电路生产线，联动发展了芯片设计、系统集成及应用服务、集成电路技术工艺研发、集成电路等电子元器件贸易和海内外风险投资等业务，是目前国内有影响力的国有集成电路产业集团。
经过20年的发展，华虹集团已拥有3条8英寸集成电路生产线、1条12英寸集成电路生产线和目前唯一的集成电路研发中心，制造工艺覆盖1微米至28纳米各节点，先导工艺达到20-14纳米；承担了包括二代居民身份证、社保卡、轨道交通自动售检票系统、2010年上海世博会票务系统等在内的一系列事关国计民生的重点项目。
华虹集团累计申请的集成电路制造专利已超过1万项，下属企业还曾多次荣获包括国家科学技术进步奖一等奖、二等奖以及北京市科学技术奖一等奖、上海市科学技术奖一等奖在内的多项科技荣誉。
公司网站：www.huahong.com.cn
公司地址：上海市浦东张江高科技园区碧波路177号华虹科技园
联系方式
- 公司地址：
- 中国（上海）自由贸易试验区碧波路177号
- 固定电话：
- 021-61007909
- 经理：
- 张素心
- 电子邮件：
- zhaopinhr@hhnec.com
- 邮政编码：
- 200000
- 顺企®采购：
- 请卖家联系我在线采购产品
其他联系方式
| 座机号码 | 021-61007909 |
| 电子邮箱 | huahong@huahong.com.cn |
| 电子邮箱 | huahong@huahong.com |
工商信息和基本资料
- 法人名称：
- 上海华虹（集团）有限公司
- 简称：
- 华虹
- 主要经营产品：
- 未提供
- 经营范围：
- 组织开发、设计、加工、制造和销售集成电路和相关产品，投资集成电路设计、制造、销售、应用及相关高科技产业，咨询服务，资产管理，自有房屋租赁，停车场（库）经营。【依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动】
- 发证机关：
- 上海市市场监督管理局
- 法人类型：
- 有限责任公司(国有控股)
- 核准日期：
- 1996-04-09
- 经营期限：
- 2046-04-08
- 经营状态：
- 存续
- 成立时间：
- 1996年04月09日
- 注册资本：
- 399809.400200万人民币 (万元)
- 公司官网：
- http://
- 所属行业：
- 其他软件开发
- 所属城市黄页：
- 上海企业网
- 顺企编码：
- 42194237
人才招聘
| 职位名称 | 月薪 | 学历要求 | 职位要求 | 发布日期 |
|---|---|---|---|---|
| 设备工程师 | 设备工程师：
1. 负责生产相关之设备的... | 2022-03-29 | ||
| 先进工艺集成研发工程师 | 专业要求：集成电路、微电子、物理、计算机... | 2022-03-14 | ||
| 器件模型工程师 | 专业要求：
集成电路、微电子、物理、计算... | 2021-11-27 | ||
| 算法工程师 | ??专业要求：微电子、计算机、数学等??... | 2021-11-27 | ||
| 助理制造工程师 | 专业要求：电子信息等理工科背景
岗位职责... | 2021-11-10 | ||
| 管培生 | 专业要求：财务、经济、法律、管理类相关专... | 2021-11-10 | ||
| 制造工程师 | 制造工程师：
1. 掌握所属区域机台状... | 2021-10-31 | ||
| 版图 PDK工程师 | 专业要求：微电子、电子信息等
岗位职能：... | 2021-10-29 | ||
| 质量管理工程师 | 专业要求：??微电子、材料、化学、管理学... | 2021-10-29 | ||
| 工艺工程师 | ???
专业要求：微电子、物理、材料、化... | 2021-10-29 |
上海华虹（集团）有限公司的股东
| 股东名字 | 出资比例 | 出资额 |
|---|---|---|
| 上海市国有资产监督管理委员会 | 51.59% | 人民币580737.547万元 |
| 上海国盛（集团）有限公司 | 18.36% | 人民币206680.6698万元 |
| 上海国际集团有限公司 | 18.36% | 人民币206680.6698万元 |
| 上海仪电（集团）有限公司 | 11.69% | 人民币131556.4835万元 |
上海华虹（集团）有限公司的工商变更记录
| 变更项目 | 变更后 | 变更前 | 时间 |
|---|---|---|---|
| 章程修正案备案 | 2020-12-21章程修正案 | 无 | 2020-12-21 |
| 投资人变更 | 上海仪电（集团）有限公司; 上海市国有资产监督管理委员会; 上海国际集团有限公司; 上海国盛（集团）有限公司; | 上海国盛（集团）有限公司; 上海市国有资产监督管理委员会; 上海仪电（集团）有限公司; 上海联和投资有限公司; [退出] 上海国际集团有限公司; | 2020-12-16 |
| 章程修正案备案 | 2020-12-09章程修正案 | 无 | 2020-12-16 |
| 监事备案 | 李一萌 [新增] | 应晓明 [退出] | 2020-12-16 |
| 董事备案 | 周磊 陈继旺 王靖 张国铭 戴敏敏 李向农 张素心 李军 | 张国铭 陈继旺 张素心 李向农 周磊 戴敏敏 王靖 叶峻 [退出] 李军 | 2020-12-16 |
| 董事备案 | 戴敏敏 [新增] 周磊 [新增] 陈继旺 李向农 [新增] 张国铭 [新增] 王靖 [新增] 张素心 李军 叶峻 | 叶峻 李军 陈继旺 秦健 [退出] 张素心 | 2020-07-17 |
| 监事备案 | 应晓明 | 郭奕武 [退出] 何川 [退出] 朱晓东 [退出] 应晓明 | 2020-07-17 |
| 投资人变更 | 上海联和投资有限公司; 上海国盛（集团）有限公司; 上海国际集团有限公司; 上海仪电（集团）有限公司; 上海市国有资产监督管理委员会; [新增] | 上海国盛（集团）有限公司; 上海仪电（集团）有限公司; 上海国际集团有限公司; 上海联和投资有限公司; | 2020-04-17 |
| 章程备案 | 2020-04-13章程备案 | 无 | 2020-04-17 |
| 注册资本变更 | 1125655.370100万人民币（ + 1.38942% ） | 1110229.619400万人民币 | 2020-04-17 |
上海华虹（集团）有限公司的组织架构
| 名字 | 职务 |
|---|---|
| 张素心 | 董事长 |
| 应晓明 | 监事 |
| 李春明 | 监事 |
| 陈继旺 | 董事 |
| 刘烈宏 | 其他人员 |
| 叶峻 | 董事 |
| 蔡晓虹 | 副董事长 |
| 陈恩华 | 监事 |
| 李峻 | 董事 |
| 李兆明 | 董事 |
| 李军 | 董事 |
| 赵贵武 | 副董事长 |
| 吴群 | 董事 |
| 朱晓东 | 监事 |
| 郭奕武 | 监事 |
上海华虹（集团）有限公司的注册商标
| 图片 | 注册号 | 商标名 | 分类 | 分类ID | 状态 | 日期 |
|---|---|---|---|---|---|---|
 | 10201334 | 图形 | 金融物管 | 36 | 商标已注册 | 2011-11-17 |
 | 10201357 | 图形 | 设计研究 | 42 | 注册申请部分驳回 | 2011-11-17 |
 | 10201300 | 图形 | 广告销售 | 35 | 注册申请部分驳回 | 2011-11-17 |
 | 10201269 | 图形 | 科学仪器 | 9 | 注册申请部分驳回 | 2011-11-17 |
 | 1499815 | 华虹 | 设计研究 | 42 | 商标变更完成 | 1999-11-15 |
 | 1479881 | 华虹 | 通讯服务 | 38 | 商标变更完成 | 1999-11-15 |
 | 1141394 | 图形 | 科学仪器 | 9 | 商标续展完成 | 1996-12-16 |
 | 1141395 | 图形 | 科学仪器 | 9 | 商标续展完成 | 1996-12-16 |
上海华虹（集团）有限公司的专利证书
| CN1617314A | 发明公布 | 2005-05-18 | 在晶体管的有源区域分两次形成硅化物的工艺 | 基本电气元件 | 胡恒升 |
| CN1282904C | 发明授权 | 2006-11-01 | 一次扫描两个普通曝光区域的曝光方法 | 姚峰英 | |
| CN1391265A | 发明公布 | 2003-01-15 | 一种无机抗反射层去除方法 | 基本电气元件 | 肖慧敏 |
| CN1632939A | 发明公布 | 2005-06-29 | 一种集成电路制造工艺技术中的浅沟隔离工艺 | 基本电气元件 | 朱骏;金虎 |
| CN1831190A | 发明公布 | 2006-09-13 | 一种防止高密度等离子体化学气相沉积对金属损伤的方法 | 胡正军 | |
| CN1547241A | 发明公布 | 2004-11-17 | 一种防止旁瓣被刻蚀转移到衬底的方法 | 肖慧敏 | |
| CN1555093A | 发明公布 | 2004-12-15 | 一种避免使用中间层刻蚀阻挡层的双大马士革结构的实现方法 | 基本电气元件 | 胡恒声 |
| CN1396645A | 发明公布 | 2003-02-12 | 一种可消除硅锥现象影响的双硬掩膜CMP工艺 | 基本电气元件 | 金虎;张征 |
| CN1414613A | 发明公布 | 2003-04-30 | 深亚微米集成电路Cu阻挡层的制备工艺 | 基本电气元件 | 徐小诚;缪炳有 |
| CN100428421C | 发明授权 | 2008-10-22 | 一种干法去除硅化物形成过程中多余金属的方法 | 基本电气元件 | 胡恒升 |
| CN1388572A | 发明公布 | 2003-01-01 | 一种制备钴硅化物的方法 | 基本电气元件 | 胡恒升 |
| CN104393011A | 发明公布 | 2015-03-04 | 柔性阻变存储器、单元结构及制备方法 | 基本电气元件 | 郭奥;胡少坚;周伟 |
| CN1414609A | 发明公布 | 2003-04-30 | 一种抗反射膜SiON表面CH<SUB>4等离子体处理方法 | 基本电气元件 | 缪柄有;徐小诚 |
| CN1291474C | 发明授权 | 2006-12-20 | 一种保护有源区面积的浅结隔离槽工艺 | 基本电气元件 | 陈寿面;杨左娅 |
| CN1545141A | 发明公布 | 2004-11-10 | 一种控制STI CMP工艺中残余氮化硅厚度稳定性的方法 | 基本电气元件 | 金虎;张震宇 |
| CN100389485C | 发明授权 | 2008-05-21 | 一种运用激光制作集成电路样品断面的方法 | 基本电气元件 | 姚峰英 |
| CN1632922A | 发明公布 | 2005-06-29 | 一种新的超薄含氮栅介质制备方法 | 基本电气元件 | 万星拱 |
| CN1547256A | 发明公布 | 2004-11-17 | CMOS制造中改进热载流子效应的工艺集成方法 | 基本电气元件 | 王炜 |
| CN1555087A | 发明公布 | 2004-12-15 | 一种消除栅刻蚀横向凹槽的方法 | 基本电气元件 | 易春燕 |
| CN100352062C | 发明授权 | 2007-11-28 | 一种高介电常数材料栅结构及其制备方法 | 基本电气元件 | 陈寿面 |
上海华虹（集团）有限公司投资的公司
| 投资企业 | 法人代表 | 地址 | 出资比例 |
|---|---|---|---|
| 上海集成电路研发中心有限公司 | 赵宇航 | 中国（上海）自由贸易试验区龙东大道3000号 | 28.9762% |
| 上海华虹挚芯电子科技有限公司 | 陈宇峻 | 中国（上海）自由贸易试验区碧波路177号402部位401－403室 | 90.6634% |
| 上海华力微电子有限公司 | 张素心 | 中国（上海）自由贸易试验区高斯路568号 | 3.1963% |
| 上海华虹科技发展有限公司 | 项翔 | 中国（上海）自由贸易试验区川桥路1188号2幢108室 | 50.0% |
| 中电新视界技术有限公司 | 何在明 | 北京市海淀区中关村东路62号 | 9.00% |
| 上海虹日国际电子有限公司 | 竺简 | 中国（上海）自由贸易试验区富特东三路76号32号厂房3层东部位 | 51.00% |
上海华虹（集团）有限公司的分公司
| 分公司名称 | 地址 | 成立时间 |
|---|---|---|
| 上海华虹（集团）有限公司总部工会职工技术协会 | 中国（上海）自由贸易试验区碧波路177号402H、402I室 | 2009-12-11 00:00:00.000 |
| 上海华虹（集团）有限公司总部工会委员会 | 上海市浦东新区碧波路177号A区四楼 | 2002-09-01 00:00:00.000 |
| 上海华虹（集团）有限公司工会委员会 | 上海市浦东新区碧波路177号华虹科技园A区4楼 | 1997-01-01 00:00:00.000 |
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