本公司同河北工业大学微电子材料研究所紧密结合，有一支主要由博士生、硕士生组成的高水平的技术与管理团队。公司有极强的创造能力，至今已经申报31项国家发明专利和4项国际发明专利，已成为华苑高新技术产业园区发明专利重点企业。研究所承担博士、硕士人才培养，并承担产品与技术创新的研究开发任务，企业需要的新技术新产品，由所研究开发，企业承担新产品的产业化、商品化。在产品研发与产业化过程中培养国家急需的高层次复合型人才，真正形成产、学、研一体的高创造力、高技术、高利润，强竞争力的知识经济摸式的高新企业集团。
我公司主要产品有：硅材料抛光液系列、蓝宝石抛光液 、砷化镓单晶材料抛光液、清洗剂、螯合剂、倒角液、多层布线铜抛光液、计算机硬盘基片抛光液、多层布线SiO2抛光液、硅片磨削液系列、单晶硅滚磨液系列等。同时还可以根据客户的标准开发特异型系列产品。
公司宗旨：创新，质量，效益。
联系方式
- 公司地址：
- 华苑产业区科馨公寓20门501-5室
- 销售主管：
- 陈永顺
- 电子邮件：
- liuyl@jingling.com.cn
- 邮政编码：
- 300000
- 顺企®采购：
- 请卖家联系我在线采购产品
其他联系方式
| 电子邮箱 | liuyl@jingling.com.cn |
| 座机号码 | 022-27272871 |
| 手机号码 | 13602076962 |
工商信息和基本资料
- 法人名称：
- 天津晶岭微电子材料有限公司
- 简称：
- 晶岭微电子材料
- 主要经营产品：
- 硅单晶衬底材料抛光液 , 蓝宝石抛光液 , 清洗剂 , 螯合剂 , 磨削液 , 倒角液 , 超大规模集成电路CMP碱性抛光液 , 计算机硬盘抛光液 , 电化学氧化清洗剂 , 砷化镓单晶材料抛光液
- 经营范围：
- 电子信息、机电一体化、新材料、环保技术开发、咨询、服务、转让；仪器仪表、计算机及外围设备、五金、交电、化工（危险品及易制毒除外）批发兼零售；以下限分支机构：抛光液、研磨液制造。（经营活动中凡国家有专项专营规定的，按规定执行）
- 营业执照号码：
- 120193000003320
- 发证机关：
- 天津滨海高新技术产业开发区市场监督管理局
- 法人类型：
- 有限责任公司
- 经营期限：
- 永久
- 经营状态：
- 存续
- 成立时间：
- 2005年05月09日
- 职员人数：
- 11人
- 注册资本：
- 312万人民币 (万元)
- 所属行业：
- 电子材料、零部件、结构件
- 所属城市黄页：
- 天津企业网
- 顺企编码：
- 19328281
天津晶岭微电子材料有限公司的股东
| 股东名字 | 出资比例 | 出资额 |
|---|---|---|
| 刘玉岭 | 88.62% | 人民币276.5万元 |
| 康静业 | 11.38% | 人民币35.5万元 |
天津晶岭微电子材料有限公司的工商变更记录
| 变更项目 | 变更后 | 变更前 | 时间 |
|---|---|---|---|
| 董事 监事 经理人员信息 | 姓名：刘锂； | 姓名：刘纳； | 2020-09-01 |
| 高级管理人员备案 | 姓名：刘锂； [新增] | 姓名：刘纳； [退出] | 2020-09-01 |
| 实收资本 | 312 | 60 | 2010-05-28 |
| 注册资本 | 312 | 60 | 2010-05-28 |
| 投资人实缴出资信息 | 本期实缴出资额: 35.5;出资日期: 2007-07-27 | 空 | 2010-05-28 |
| 投资人实缴出资信息 | 本期实缴出资额: 276.5;出资日期: 2010-04-30 | 空 | 2010-05-28 |
| 实收资本 | 312（ + 420% ） | 60 | 2010-05-28 |
| 投资人实缴出资信息 | 本期实缴出资额: 276.5 出资日期: 2010-04-30 | 空 | 2010-05-28 |
| 注册资本 | 312（ + 420% ） | 60 | 2010-05-28 |
| 营业期限截止日期 | 2025-05-08 | 2015-05-08 | 2010-05-28 |
天津晶岭微电子材料有限公司的组织架构
| 名字 | 职务 |
|---|---|
| 刘纳 | 监事 |
| 康静业 | 经理 |
| 刘玉岭 | 执行董事 |
天津晶岭微电子材料有限公司的专利证书
| CN102010670B | 发明授权 | 2013-03-06 | 高浓度Ti阻挡层表面化学机械抛光液的制备方法 | 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用 | 刘玉岭;孙鸣;项霞 |
| CN100528480C | 发明授权 | 2009-08-19 | 蓝宝石衬底材料高去除速率的控制方法 | 刘玉岭;牛新环 | |
| CN102010666A | 发明公布 | 2011-04-13 | 超大规模集成电路硅衬底的化学机械抛光液制备方法 | 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用 | 刘玉岭;周建伟;赵巧云 |
| CN102020975B | 发明授权 | 2013-04-03 | 镁铝合金材料表面化学机械抛光液的制备方法 | 刘玉岭;王伟;牛新环;徐文忠 | |
| CN102010659B | 发明授权 | 2013-06-05 | 用于铌酸锂光学晶片研磨抛光的抛光液的制备方法 | 刘玉岭;檀柏梅;胡轶 | |
| CN1864924A | 发明公布 | 2006-11-22 | 计算机硬盘基片粗糙度的控制方法 | 刘玉岭;刘长宇 | |
| CN105506632A | 发明公布 | 2016-04-20 | 碱性抛光液在低压力下提高GLSI铜布线铜膜去除速率的应用 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制 | 刘玉岭;武鹏;孙鸣 |
| CN102020923A | 发明公布 | 2011-04-20 | 锑化铟材料表面化学机械抛光液的制备方法 | 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用 | 刘玉岭;王娟;李晖 |
| CN102010665B | 发明授权 | 2013-06-05 | 极大规模集成电路多层布线中钨插塞的抛光液的制备方法 | 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用 | 刘玉岭;潘国峰;王辰伟 |
| CN102010668A | 发明公布 | 2011-04-13 | 磷酸氧钛钾晶体CMP抛光液的制备方法 | 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用 | 刘玉岭;牛新环;刘钠 |
| CN1895798A | 发明公布 | 2007-01-17 | 液晶显示屏电化学清洗方法 | 清洁 | 刘玉岭;李薇薇;常明;潘鹏 |
| CN102010663B | 发明授权 | 2013-06-05 | 二氧化硅介质化学机械抛光液的制备方法 | 刘玉岭;檀柏梅;刘海晓 | |
| CN102010664B | 发明授权 | 2013-02-27 | 硬盘磷化铟基板CMP抛光液的制备方法 | 刘玉岭;王胜利;项霞 | |
| CN102010658A | 发明公布 | 2011-04-13 | 钨钼合金材料化学机械抛光液的制备方法 | 刘玉岭;潘国峰;陈海涛 | |
| CN102010666B | 发明授权 | 2013-03-06 | 超大规模集成电路硅衬底的化学机械抛光液制备方法 | 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用 | 刘玉岭;周建伟;赵巧云 |
| CN102010794A | 发明公布 | 2011-04-13 | 液晶显示屏水基清洗液的制备方法 | 动物或植物油、脂、脂肪物质或蜡；由此制取的脂肪酸；洗涤剂；蜡烛 | 刘玉岭;高宝红;檀柏梅;黄妍妍 |
| CN105419651A | 发明公布 | 2016-03-23 | CMP中碱性抛光液抑制GLSI铜钴阻挡层电偶腐蚀的应用 | 刘玉岭;潘辉;高宝红 | |
| CN102010665A | 发明公布 | 2011-04-13 | 极大规模集成电路多层布线中钨插塞的抛光液的制备方法 | 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用 | 刘玉岭;潘国峰;王辰伟 |
| CN102010660B | 发明授权 | 2013-03-06 | 钽化学机械抛光液的制备方法 | 刘玉岭;王胜利;穆会来 | |
| CN102020975A | 发明公布 | 2011-04-20 | 镁铝合金材料表面化学机械抛光液的制备方法 | 刘玉岭;王伟;牛新环;徐文忠 |